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199 第199章 计算材料的神（第4页）
“我将其命名为电子界面反应迁移模型，简写为eirm。”
“其主要运用的是反应扩散方程，并且通过将其优化，融合了薛定谔方程、界面态密度，以期来描述界面反应过程中电子迁移行为。”
“如果其能够实现精确的描述，也就能够在一定的程度上帮助我们对锂磷硫氯的优化。”
听到萧易的介绍，四个人顿时都瞪大了眼睛。
什么？！
描述电子迁移行为？而且还是专门针对界面上生的过程？
天，他们的萧教授，这可真是不出手则已，一出手就吓死个人。
“好了，接下来我先把这个模型给你们，你们了解一下，有什么问题就问我，之后就开始进行实验验证。”
随后，萧易就把模型给了他们。
四个人立马都无比好奇地看了起来。
而越看，他们就越是激动。
“妙啊！”
“竟然能够求出电子在界面处薛定谔方程的解，这个电子波函数……也太精细了吧！”
“界面处的态密度是影响电子迁移的关键因素，这个模型把界面处电子能级的离散化效应也给恰当的容纳进去了。”
“还有……”
四个人惊叹个不停。
而且他们能够看出来的，也并不足够深刻，这个模型所涉及到的，更是远比他们想象的要深。
但不管如何，他们都得出了一个结论。
那就是——能行！
“教授，我们看完了。”
“没有问题了吗？”
“没有了。”
萧易点头：“行，那就这样，现在去实验室，进行验证实验。”
“是！”
就这样，他们来到了各个实验室，开始验证。
利用扫描隧道显微镜和原子力显微镜等先进技术，直接观测电子在界面上的迁移路径，并与理论模型进行对比，而初次之外，还有电子迁移率、态密度等各种验证手段。
大概几天之后。
随着所有的实验室完成。
看着最终报告上给出的结果，刘晓东他们都惊呆了。
“模型与实验误差，最高也就只有不到15%的差距，平均误差更是只有5%……”
“额滴神啊！”
他们感觉仿佛看到了计算材料的神。
（本章完）
